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原位近常压X射线光电子能谱仪(NAP-XPS)

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功能介绍

原位近常压 X 射线光电子能谱(NAP‑XPS)是一种可在接近实际工况条件(如近常压、特定反应气氛)下开展的先进表面分析技术。该技术利用 X 射线辐照激发样品表面产生光电子,通过检测光电子的能量与强度,可精准表征样品表面的元素组成、化学价态及界面反应过程,从而阐明表面反应机理、吸附‑脱附行为以及催化剂活性位点的动态演变规律。

其主要应用包括以下方面:

  1. 催化研究:可在真实反应条件下表征催化剂表面化学态演变,揭示活性位点的动态作用机制;

  2. 能源材料:用于分析电极材料在充放电过程中的表面化学变化,探究材料衰减与失效机理;

  3. 表面科学:研究材料在不同气氛环境下的吸附与脱附行为,表征表面污染、氧化及界面演化过程。


制样要求

1.可测试粉末、液体、气体及生物分子样品。

2.块体与薄膜样品尺寸不超过10 mmx10mmx3mm。

3.粉末样品量不低于5mg。

4.液体样品需经干燥制样,严禁测试含氟、氯、溴、碘等易腐蚀性、易挥发组分的样品。

5.支持光照、高温、气氛环境及电化学原位条件下的XPS测试。

6.预约前请先联系技术老师确认具体测试需求。


测试案例

常见问题

Q1、

预存价

1. 在新测试账户中首次预存5000元及以上,即可开通预存支付;

2. 下单支付方式选择"预存支付",可享受预存福利;

3. 未预存或预存欠费,则无法选择预存支付,请及时联系预存;

4. 预存价仅对高校和研究院用户开放,企业用户暂不享受。

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